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狹縫涂布法在制備高精度薄膜方面得到了較為廣泛的應(yīng)用。狹縫涂布法是一種精密的涂布技術(shù)，工作原理為涂布液在受到壓力的情況下沿著涂布機(jī)模頭的縫隙噴出涂覆在基材表面。與其他涂布方式相比較，它有許多優(yōu)點(diǎn)，例如可以以較快的速度進(jìn)行涂布，涂布精度較高、涂出的濕膜膜厚較為均勻等。在進(jìn)行狹縫涂布過程中系統(tǒng)封閉，可以阻止污染源的進(jìn)入，涂布液利用率較高，并且能夠保持涂布液性質(zhì)的穩(wěn)定。通過控制速率，精密計(jì)量等方法來實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)涂布。它是半導(dǎo)體顯示光學(xué)薄膜應(yīng)用中更具前景的涂布方法。

狹縫涂布示意圖

在進(jìn)行狹縫涂布前，為保證光學(xué)薄膜的質(zhì)量，需要對基材進(jìn)行預(yù)處理來保證基材表面的潔凈度，傳統(tǒng)的清洗方法主要分為干法清洗和濕法清洗兩種類型。濕法清洗是通過使用某種溶液實(shí)現(xiàn)對基材的清洗過程，一般包括蒸汽清洗、溶液浸泡和旋轉(zhuǎn)噴淋等方式。然而這些方式都會(huì)有引入新雜質(zhì)的風(fēng)險(xiǎn)，并且還要針對廢液做特定處理，為避免對環(huán)境造成污染，所以一般不采用濕法清洗。干法清洗由于控制精準(zhǔn)不會(huì)造成二次污染近些年已經(jīng)被廣泛的應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域。干法清洗中發(fā)展較為迅速的是等離子清洗。

等離子清洗是通過電源電離氣體產(chǎn)生等離子體，等離子體具有較大的能量，將其作用于基材表面可以去除基材表面的污漬，提高基材表面的活性。并且處理后的基材，其表面附著能力也會(huì)變得更強(qiáng)，這是因?yàn)榈入x子清洗后的基材表面可以賦予其羥基，由于羥基是親水性基團(tuán)，因此可以使?jié){料更好的涂覆在基材表面。。

光學(xué)薄膜狹縫涂布前，用等離子體清洗機(jī)清洗成膜的基底表面污漬，防止薄膜因?yàn)榛撞桓蓛舻脑驅(qū)е卤∧づc基底粘附力差；目的是去除基底表面的一些臟污和雜質(zhì)及提高基底表面的活化性能，從而提高漿料在基底上成膜的均勻性、粘附性。