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IC封裝一方面起著安裝、固定、密封、保護(hù)芯片及增強(qiáng)電熱性能等方面的作用,另一方面它通過(guò)芯片上的接點(diǎn)用導(dǎo)線連接到封裝外殼的引腳上,這些引腳又通過(guò)印刷電路板上的導(dǎo)線與其他器件相連接,從而實(shí)現(xiàn)內(nèi)部芯片與外部電路的連接。同時(shí)芯片必須與外界隔離,以防止空氣中的雜質(zhì)對(duì)芯片電路的腐蝕而造成電氣性能下降。

IC封裝技術(shù)已經(jīng)歷了好幾代的變遷,從DIP、QFP、PGA、BGA到CSP再到MCM,多達(dá)幾十種,適用頻率越來(lái)越高,耐溫性能越來(lái)越強(qiáng),引腳數(shù)越來(lái)越多,引腳間距減小,重量減小,可靠性提高,技術(shù)指標(biāo)一代比一代先進(jìn),包括芯片面積與封裝面積之比越來(lái)越接近于1,使用更加方便等等。IC封裝產(chǎn)品之一結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖1。

圖1 某IC封裝產(chǎn)品結(jié)構(gòu)圖

IC封裝工藝中存在的問(wèn)題

IC封裝形式千差萬(wàn)別,且不斷發(fā)展變化,但其生產(chǎn)過(guò)程大致可分為晶圓切割、芯片置放裝架、內(nèi)引線鍵合、密封固化等十幾個(gè)階段,只有封裝達(dá)到要求的才能投入實(shí)際應(yīng)用,成為終端產(chǎn)品。IC封裝中存在的問(wèn)題主要包括焊接分層、虛焊或打線強(qiáng)度不夠,導(dǎo)致這些問(wèn)題的罪魁禍?zhǔn)拙褪且€框架及芯片表面存在的污染物,主要有微顆粒污染、氧化層、有機(jī)物殘留等,這些存在的污染物使銅引線在芯片和框架基板間的打線焊接不完全或存在虛焊。

IC封裝等離子清洗設(shè)備原理及應(yīng)用

等離子體

等離子體是由離子、電子、自由激進(jìn)分子、光子以及中性粒子組成的正離子和電子密度大致相等的電離氣體,整體呈電中性。

等離子清洗設(shè)備原理

等離子清洗是等離子體對(duì)樣片的表面進(jìn)行處理,使樣品表面的污染物被去除,還可以提高其表面活性。針對(duì)不同的污染物,可以采用不同的清洗工藝,根據(jù)所產(chǎn)生的等離子體種類不同,等離子清洗分為化學(xué)清洗、物理清洗及物理化學(xué)清洗。

放電形成的等離子體中包括電子、正離子、亞穩(wěn)態(tài)的分子和原子等,當(dāng)?shù)入x子體與被清洗的物體表面相互接觸時(shí),一方面利用等離子或等離子激活的化學(xué)活性物質(zhì)與材料表面污物進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),如用等離子體中的活性氧與材料表面的有機(jī)物進(jìn)行氧化反應(yīng)。圖2分別是氧等離子體和氫等離子體清洗過(guò)程原理圖,圖2(a)表示氧等離子體與材料表面有機(jī)污物作用,把有機(jī)污物分解為二氧化碳等。圖2(b)表示氫等離子與表面氧化物作用,把氧化物還原并生成水等。

圖2 等離子體化學(xué)清洗示意圖

另一方面利用等離子的高能粒子對(duì)污物轟擊等物理作用,如用活性氬等離子體清洗鋼鐵表面污物,轟擊使其形成揮發(fā)性污物被真空泵排出,如圖3所示。

圖3 氬等離子體清洗物理作用示意圖

等離子體清洗工藝在IC封裝行業(yè)中的應(yīng)用主要在以下幾個(gè)方面:

1) 點(diǎn)膠裝片前

工件上如果存在污染物,在工件上點(diǎn)的銀膠就生成圓球狀,大大降低與芯片的粘結(jié)性,采用等離子清洗可以增加工件表面的親水性,可以提高點(diǎn)膠的成功率,同時(shí)還能夠節(jié)省銀膠使用量,降低了生產(chǎn)成本。

2) 引線鍵合前

封裝芯片在引線框架工件上粘貼后,必須要經(jīng)過(guò)高溫固化。假如工件上面存在污染物,這些污染物會(huì)導(dǎo)致引線與芯片及工件之間焊接效果差或黏附性差,影響工件的鍵合強(qiáng)度。等離子體清洗工藝運(yùn)用在引線鍵合前,會(huì)明顯提高其表面活性,從而提高工件的鍵合強(qiáng)度及鍵合引線的拉力均勻性。

3）底部填充前

等離子清洗的主要目的是改善基板表面的粗糙度,清除污染和雜質(zhì),為底部填充過(guò)程提供一個(gè)干凈的環(huán)境,同時(shí)隨著基板表面粗糙度的改善,膠液的流動(dòng)性會(huì)更好。

隨著國(guó)內(nèi)封裝芯片集成度的不斷增加，芯片引腳數(shù)持續(xù)增多，引腳間距持續(xù)減小，芯片與基板上的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物必將制約著IC封裝行業(yè)的發(fā)展，而現(xiàn)有的清洗均勻、一致性好、可操控性強(qiáng)及具有方向性選擇處理的等離子清洗工藝應(yīng)用于IC封裝工藝中,能夠有效解決封裝過(guò)程中由于污染物存在所導(dǎo)致的各種問(wèn)題，提高封裝質(zhì)量及產(chǎn)品性能。